KRK笠原理化 電鍍?nèi)芤恒~離子在線監(jiān)測 CU-502的簡介

KRK CU-502 是一款設(shè)計用于工業(yè)生產(chǎn)流程在線連續(xù)監(jiān)測的銅離子（Cu2?）濃度分析儀。它并非實驗室手動儀器，而是安裝在生產(chǎn)線或管道旁路，實現(xiàn) 7x24小時無人值守、自動測量的關(guān)鍵過程控制與質(zhì)量管理設(shè)備。

一、 核心原理：自動化比色分析

CU-502 的核心工作原理是高度自動化的 “比色分析法" ，將復(fù)雜的實驗室化學(xué)分析流程集成于一臺堅固的工業(yè)儀表內(nèi)。

1. 自動采樣與預(yù)處理：

• 儀表通過內(nèi)置微型泵，從工藝管線中連續(xù)或間隔抽取少量待測液體樣本。

• 樣本經(jīng)過過濾、恒溫等預(yù)處理，確保進(jìn)入反應(yīng)單元的液體清潔、溫度穩(wěn)定。

2. 定量反應(yīng)與顯色：

• 預(yù)處理后的樣本被精確定量，并與儀表內(nèi)部儲存的專用顯色試劑自動混合。

• 試劑與樣本中的銅離子發(fā)生特異性化學(xué)反應(yīng)，生成有顏色的絡(luò)合物。顏色深淺與銅離子濃度成正比。

3. 光電測量與計算：

• 混合后的液體流入一個具有固定光程的比色皿（測量池）。

• 一束特定波長的光穿過比色皿，位于另一側(cè)的光電傳感器測量透射光強度。

• 儀表根據(jù)朗伯-比爾定律，通過計算吸光度的變化，精確計算出樣本中的銅離子濃度。

4. 數(shù)據(jù)輸出與自維護(hù)：

• 計算結(jié)果實時顯示在觸摸屏上，并通過4-20mA模擬信號或RS-485/以太網(wǎng)等數(shù)字通訊上傳至控制室（PLC/DCS）。

• 具備自動清洗、自動校準(zhǔn)功能，定期沖洗流通管路，并利用內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)液進(jìn)行校正，確保長期穩(wěn)定性與準(zhǔn)確性。

二、 核心特點與優(yōu)勢

• 高精度與高特異性：比色法抗干擾能力強，能有效排除工藝液中其他常見離子的影響，測量結(jié)果準(zhǔn)確可靠。

• 全自動在線運行：無需人工取樣、送檢、化驗，實現(xiàn)真正的過程實時監(jiān)控與預(yù)警。

• 強大的環(huán)境適應(yīng)性：具備堅固的工業(yè)外殼（通常為IP65防護(hù)等級），耐腐蝕、防塵防水，適應(yīng)電鍍車間、廢水處理站等惡劣環(huán)境。

• 智能化管理：大屏顯示、歷史數(shù)據(jù)記錄、趨勢曲線、高低限報警等功能一y俱全，支持遠(yuǎn)程監(jiān)控與數(shù)據(jù)導(dǎo)出。

三、 主要運用場景

CU-502廣泛應(yīng)用于一切需要精確控制或監(jiān)測液體中銅含量的工業(yè)領(lǐng)域：

1. PCB與電子電鍍行業(yè)（核心應(yīng)用）：

• 電鍍槽液管理：連續(xù)監(jiān)測酸性硫酸銅、焦磷酸銅等電鍍液中銅離子的濃度，是實現(xiàn)PCB均勻鍍層、通孔填孔等x進(jìn)工藝的關(guān)鍵。濃度波動直接影響鍍層厚度、均勻性與物理性能。

• 自動添加控制：其輸出信號可直接連鎖控制銅球添加機或藥液補給泵，實現(xiàn)濃度閉環(huán)控制，穩(wěn)定品質(zhì)，節(jié)約原料。

2. 金屬表面處理與精飾電鍍：

• 監(jiān)測裝飾性電鍍（如衛(wèi)浴、五金）、塑膠電鍍、合金電鍍等工藝槽液，保證產(chǎn)品外觀與防腐性能。

3. 蝕刻與微蝕工藝：

• 監(jiān)測蝕刻液（如氯化銅蝕刻液）中的銅離子積累濃度，用于判斷蝕刻能力、控制再生系統(tǒng)或決定廢液更換時機。

4. 環(huán)保與廢水處理：

• 安裝在廢水排放口或處理工藝中，連續(xù)監(jiān)測總銅含量，確保排放達(dá)標(biāo)，滿足環(huán)保法規(guī)要求，并可用于指導(dǎo)廢水處理藥劑的精確投加。

總結(jié)來說，KRK CU-502 工業(yè)銅濃度計是將“實驗室分析員"角色自動化、儀器化的d范。 它通過精密的流體控制和光學(xué)測量技術(shù)，為涉及銅工藝的生產(chǎn)線提供了一雙y不疲倦的“化學(xué)眼睛"，是實現(xiàn)工藝標(biāo)準(zhǔn)化、提升產(chǎn)品良率、節(jié)約原材料、確保環(huán)保合規(guī)不可h缺的智能化工具。在選擇時，務(wù)必根據(jù)自身工藝液的具體成分、濃度范圍和環(huán)境條件，與供應(yīng)商進(jìn)行充分的方案驗證。